工程名称：上海外滩源
工程地点：上海
工程状态：
竣工年份：
项目特色：
建筑功能：
建筑高度： m
建筑面积： m2
幕墙类型：防火幕墙，防火窗
支持体系：
面板固定体系：
施工方式：
装配方式：
洛克·外滩源改造方案由“最简约派建筑大师”的David Chipperfield建筑事务所主持设计，其还主持设计了上海的西岸美术馆，以及杭州的良渚文化博物馆等建筑，均为简洁的方形体量和建筑空间。
[幕墙]
晶瓷玻璃科技（上海）有限公司
建设单位：David Chipperfield
