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工程基本信息 ×关闭

工程名称:武汉市中国光谷光电子大厦

工程地点:武汉市

工程状态:

竣工年份:

项目特色:

建筑功能:

建筑高度:0 m

建筑面积:1000 m2

幕墙类型:

支持体系:

面板固定体系:

施工方式:

装配方式:

工程简介 ×关闭

彩釉夹胶钢化镀膜中空、夹层玻璃,共4000平方米

所用工程材料 ×关闭
参建企业 ×关闭